保护基化学是有机合成化学中绕不开的话题，而涉及面最广的就是胺基保护基和羧酸保护基。常用的胺基保护基有Boc，Fmoc，Alloc，Cbz，Ts等等。而常用的羧酸保护基有苄酯，叔丁酯，烯丙酯等等。有的时候根据需要，我们会选择不同的组合，尽量避免脱某个保护基，另外一个保护基受影响。然而，
头孢孟多酯杂质A（Cefamandole EP Impurity A），cas：68506-34-3，类白色结晶性粉末，结构式：第一次合成路线，用扁桃酸制备甲酰扁桃酸时尝试不同温度和加硫酸催化等方式都只转化约55%，且不易纯化。其合成路线如下： 本次合成收率很低，通过查询文献，改用硅脂化保护的7-ACA直接与扁桃酰氯缩合，反应条件温和，杂质
原料药（盐酸曲美他嗪）CAS：13171-25-0Mp：200-205℃性状：白色或灰白色结晶粉末。性质：游离碱溶于DCM，EA，EtOH等常用有机溶剂，微溶于水，盐酸盐溶于醇类及水溶液中，微溶于二氯甲烷，几乎不溶于EA，甲叔醚中。药理分类：部分脂肪酸氧化（pFOX）抑制剂，抗心绞痛药。合成路线及实验：1、盐酸曲美他嗪N-Forml 杂质
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